2026年6月2日，日本日立研发集团电子全息技术领域权威专家Toshiaki Tanigaki博士到访西安交通大学—西北有色金属研究院—日立联合研发中心，开展学术交流与合作洽谈。

Tanigaki博士是国际知名电子全息技术专家，掌握全球独有的日立1.2 MeV像差校正电镜核心技术，该设备搭载四套电子全息双棱镜，具备顶尖的微观表征能力。交流期间，章效锋向来访专家详细介绍了联合研发中心电镜设备平台配置及在研科研项目情况。双方围绕电子全息技术的普及应用场景、技术落地路径展开深入探讨。

Tanigaki博士表示，将持续开展常态化来访交流，全力推动电子全息技术在学校材料科学研究领域落地应用，重点赋能电荷、磁场相关前沿材料研究，助力提升相关方向科研创新能力。

本次交流进一步深化了三方产学研协同合作，为高端显微表征技术联合攻关、前沿科研创新奠定了良好基础。