聚焦离子束刻蚀沉积系统Helios NanoLab600-西安交通大学-西北有色金属研究院-日立联合研发中心

设备

1.微纳尺度下材料的定点切割加工和定位透射电镜样品制备；

2.在微纳尺度下指定位置选择性的Pt金属沉积和C非金属沉积；

3.EBSD & EDX；

4.原位扫描电镜下的纳米力学测试.

电子束电压范围：350 V—30 kV 离子束电压范围：500 V—30 kV

电子束分辨率 @束交点：0.9 nm @ 15 kV 1.6 nm@ 5 kV 2.5 nm @ 1 kV

离子束分辨率 @束交点：5.0 nm @30 kV

非磁性块体和非粉末材料，样品表面清洁，长*宽<20*20mm，高<10mm，重量<200g。

一．定点透射电镜样品制备PANS, 118, e2110596118 (2021)

二．微纳尺度拉伸、压缩样品制备Nature Materials, 20, 1371-1377 (2021)

三．扫描电镜下的原位力学测试Science 369, 542–545 (2020)

* 注册预约账号前请先联系设备管理员（联系电话见上方简介）确认设备状态、预约规则及实验内容可行性。